化学气相沉积的过程简化可为(化学气相沉积的过程是什么)

导语：化学气相沉积的过程

无论是何种形式的化学沉积技术，其工艺过程都会包括如图1-8所示几个步骤：

（1）反应物的传输。反应物从反应室入口到反应区的流动与扩散。

（2）产物的生成。发生气相的化学反应并产生新的反应生成产物及副产物。

（3）原始反应物及反应产物的附着。原始反应物及其反应产物运输并附着到基底表面。

（4）物质的扩散。基底表面上的物质向生长区域的扩散。（5）薄膜的形成。表面催化的多相反应形成薄膜。

（6）副产物的解吸附。化学反应的挥发性副产物从表面解吸附。

（7）副产物的移除。反应的副产物通过对流和扩散从反应区排出。在实际生产过程中，化学气相沉积反应的时间长短很重要，生产速率受到温度的影响，基于化学气相沉积反应的有序性，最慢的反应阶段会决定整个沉积过程的速率。当反应温度和压力较低时。此时驱动表面反应的能量降低，表面反应速率会下降，最终，反应物到达基底表面的速率将超过表面化学反应的速率.在这种情况下，沉积速率受反应速率控制。

化学气相沉积气体流动对沉积速率及膜层质量有重要影响，其主要因素需要考虑反应气体是如何从主气体流输送到基底表面的，即输送量与化学反应速率的相对大小。如果化学气相沉积的反应气压较低，反应气体到达基底表面的扩散作用会显著增加，从而增加反应物到基底表面的输运（同时加速反应副产物从基底表面的移除）。因此，在实际的化学气相沉积工艺中多采用低压化学气相沉积（LPCVD），而较少采用常压化学气相沉积（APCVD）。

（摘自《气相沉积薄膜强韧化技术》侵权必删）

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