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长春光机立功了!国产EUV取得重大突破,外媒:科学家不睡觉

导语:长春光机立功了!国产EUV取得重大突破,外媒:中国科学家不睡觉长春光机所有多厉害

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众所周知,基于《华盛顿协议》的存在,ASML自从2018年就失去了对大陆供应EUV光刻机的能力,为了保住核心技术,ASML还声称:“给中国半导体企业图纸都造不出来!”

面对着ASML的讽刺,我国科研团队并没有气馁,反而更加重视自主研发,如今国产EUV再次取得重大突破,长春光机立功了!外媒惊恐道:中国科学家不睡觉?

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这些年来,美方通过主导地位优势,针对中方实施了多次限制手段,在《华盛顿协议》之后,又接连禁止美国企业向中国的半导体公司出售芯片制造设备和软件。

比如说,美国制造商应用材料公司于2019年停止向中国大陆出售芯片制造设备;美国政府于2020年加强针对华为和海思的制裁手段,断供了高通、英特尔芯片以及EDA软件等。

与此同时,2020年美方还对中国的半导体公司中芯国际实施了限制,禁止中芯国际在美国上市,也禁止美国投资者持有中芯国际的股份。

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当然,美资本主义的“嘴脸”比比皆是,这些限制措施对中国的半导体产业造成了一定的影响,但中国一直采取措施加强自主研发能力,提高半导体产业的核心竞争力。

就拿国产EUV光刻机项目来说,中国研发团队持续打破ASML和美方的世界先进水平半导体技术。

比如说,哈工大的DPP-EUV极紫外光源、真空超高精度激光干涉仪技术等;中科院的高能同步辐射光源设备;中科科仪的直线式劳埃透镜镀膜装置等等。

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可以说近些年来的持续突破,令美方乃至ASML都有着慌张的气色,毕竟EUV光刻机拥有着超过十万个零部件,作为全球最先进的产品,其价值不言而喻。

即便是集合全球绝大部分尖端科研人才的LCC EUV联盟,在研发EUV光刻机的过程中也花了整整16年时间,可中方的研发态度令人震惊。

当然,正是我国科研人才的努力,以至于中方的EUV光刻机技术持续突破发展迅速,相信未来不久后,国产EUV光刻机就登上全球市场。

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而不久前的一个消息,再一次令国产EUV的脚步向前推进了一步,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所迎来了再一次突破。

据外媒报道显示,长春光机成功研发出了重要部件“EUV光源工程化样机”,这一成果的取得,打破了美方在光刻机上多年来的封锁和打压。

长春光机所是中国半导体行业的重要骨干企业之一,标志着中国半导体产业在极紫外光刻机领域取得了重要进展,也让外界再次惊叹中国科学家的不懈努力和创新能力。

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成功研发出EUV光源工程化样机,为中国在EUV光刻机领域的发展打开了一扇大门,也证明了中国半导体产业在技术创新和自主研发方面的能力。

外媒对此也纷纷发表评论,称中国科学家的不懈努力和创新能力令人惊叹。一些媒体甚至调侃说,中国科学家是不睡觉的。

实际上,中国半导体产业的快速发展和崛起,离不开中国科学家的不懈努力和创新精神,以及中国政府对于科技创新的高度重视和支持。

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当然,EUV光刻机只是中国科技发展的一部分,无论是在半导体领域还是其他领域,中国正在迅速地赶超世界先进水平。

面对美方恶劣的制裁手段,全面破坏了全球经济一体化的趋势,摧毁了国际市场的正常贸易,所以自主研发是中国科技发展的必然趋势,中国科技的崛起也是必然的。

科技是人类进步的重要推动力量,它赋予人类更多的能力和可能性,解决了许多过去无法解决的难题,为人类带来了巨大的优势。

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在医疗领域,科技的发展让医疗设备更加精准,治疗效果更好;在交通领域,科技的发展让交通更加便捷,节能环保;在通讯领域,科技的发展让人们之间的交流更加迅速和高效。

这不仅仅是一个国家的利益,也不是是为了个人的利益,而是为了整个人类社会的进步和发展。

科技是人类文明的重要支柱,它的发展将带来更多的机遇和挑战,我们需要共同努力,探索更多的科技创新路径,让科技的力量更好地造福于人类。

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