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三极管基础

一,三极管结构和工作原理

三极管全称半导体三极管。我们从它众多的名字中可以看出一些三极管的结构特性:它相对于二极管多了一极——三极;

如果从这个定义出发,我们广义的来看三极管,它包括了很多种类的器件:双极型晶体管(BJT),达林顿管,晶闸管,场效应管(MOS)以及IGBT。

但当你听到有人说电路中需要用到一个三极管,那他绝不是需要一个达林顿管,晶闸管,MOS管和IGBT;他就是特指:双极型晶体管(BJT),以至于大多数人都忘记它本来的名字,你可知“Triode”不是它真姓;双极型晶体管全称:双极性结型晶体管(Bipolar Junction Transistor, BJT);我们先从它的本名出发来分析BJT的结构特性:

1. 双极性:“自由电子”和“空穴”两种载流子流动参与导电(MOS管是单极性);

2. 结型:由两个PN结背靠背组成。

我们从功能角度来给三极管下一个定义:一种与其它电路元件结合使用时可产生电流增益、电压增益和的信号功率增加以的多结半导体器件;因此三极管是有源器件(二极管是无源器件)。

我们现在看来似乎非常简单的三极管其实并不简单:1947年12月,贝尔实验室的科学家们发明了点接触形式的双极性晶体管;1948年,肖克利发明了采用结型构造的双极性晶体管。BJT是电子学历史上具有革命意义的发明,其发明者:威廉·肖克利、约翰·巴丁和沃尔特·布喇顿被授予了1956年的诺贝尔物理学奖。

此后基于BJT又发明了开关速度更快、损耗更小的MOSFET;从此,BJT和MOSFET除了作为开关器件应用的同时,也成为了现代大规模集成电路的基本逻辑单元。

接下来分析的“三极管”特性均是指:双极型晶体管(BJT)。

1,三极管的结构

如下图所示,三极管有三个掺杂不同的扩散区和两个PN结,根据两个PN结组成结构的不同,可分为两种不同结构的三极管:NPN型和PNP型;简单来说三极管就是在一块半导体基片上制作出两个相距很近的PN结:

1. 发射结(BE结);

2. 集电结(BC结)。

从两个PN结看,将整块半导体分成了三部分:

1. 基区;

2. 发射区;

3. 集电区。

同时对外呈现三个电极:

1. B极:基极(Base);

2. C极:集电极(Collector);

3. E极:发射机(Emitter)。

三极管基础

从上图三极管的简化结构图中,以NPN为例我们看到:基区(B)的宽度很小,掺杂浓度中等(P+),发射区的掺杂浓度最高(N++),集电区掺杂浓度最低(N)。这些特性都对三极管工作特性有非常大的作用。

如下图为集成电路工艺制造的NPN型三极管的截面图,我们可以明显看到实际结构并不像简化结构中那么简单;造成实际结构复杂的原因有两个:

1. 各端口引线要做在表面,为降低半导体电阻和引线与半导体的接触电阻,必须要有重掺杂的N++型掩埋层;

2. 一片半导体材料上要制造很多个三极管,彼此之间要隔离开来,需要通过添加P+型区形成反偏的PN结或添加氧化物,来实现器件的隔离。

三极管基础

通过上图,我们看到三极管并非是对称的器件:虽然从示意图中可以是2个N型半导体夹1个P型半导体,但发射区和集电区的掺杂浓度和几何形状都是有很大的不同。所以三极管并非是有两个二极管简单拼凑而成,如下图所示,每个区都有各自不同的特点:

1. 发射区高掺杂:发射区半导体掺浓度高(载流子多)、面积小,便于放射电子;

2. 基区尺度很薄:3~30μm,掺杂浓度低;

3. 集电结面积大:集电区半导体掺杂浓度低(载流子少)、面积大,便于收集电子。

三极管基础

2,三极管工作原理

首先我们需要思考一个问题:如果将两个二极管背靠背放置,从中间引出一根信号线加上电压(如下图所示),那它是否会变成一个三极管,导通并具有放大的功能?很显然,这样的两个二极管组合后并不能变成一个三极管;那为什么在特殊结构下就能变成三极管呢?

三极管基础

在分析三极管之前,我们再来回顾下关于PN结导电机制:PN结正、反偏时,多数载流子和少数载流子充当的角色,决定了PN结的单向导电特性;

1. 正偏时:多数载流子载流导电,电流大;

2. 反偏时:少数载流子载流导电,电流小;而此时少数载流子无需抵消PN结的内建电场,反向通过PN结比多数载流子正向通过要容易的多。

2.1放大状态工作原理

接下来我们以NPN型三极管为例(PNP原理相同,将“空穴”看成“正电子”)来推导其导电理论,在典型情况下发射区、基区和集电区的典型掺杂浓度分贝是:10¹⁹ cm⁻³,10¹⁷ cm⁻³和10¹⁵ cm⁻³,如下图所示。

三极管基础

如下左图所示,正常情况下在BE之间加正电压(0.7V),在BC之间加正电压(放大状态),所以B-E结是正偏,B-C结是反偏的,这种情况称为正向有源模式:

1. 发射结(B-E)正偏,而发射区(E区)掺杂浓度很大,所以大量“自由电子”越过发射结注入基区(B区);

2. 基区(B区)本身非常薄(几um级别),所以在基区的“空穴”不足以将从发射区(E区)涌入进来的大量“自由电子”全部复合,其实绝大部分“自由电子”都不能被基于的空穴捕获;

——假如放大倍数是100倍,那么有大约1%的“自由电子”被基区捕获。

3. 集电结(B-C)反偏,所以B-C结边界少子——“自由电子”的浓度为0,如下右图所示:大的电子浓度梯度(有载流子浓度的梯度,说明就有载流子运动)表明从发射区(E区)注入的“自由电子”越过基区(B区)扩散到集电结(B-C)的空间电荷区中;

4. 关于集电结(B-C)反偏,我们再换一种解释:由于从发射结越过到基区(B区)非常多的“自由电子”,而对基区来说“自由电子”是少子,当集电结反偏时,基区的少子:“自由电子”就非常容易穿越空间电荷区进入集电区(C区),从而打通C-E的电流路径;此时集电极C电流Ic的大小主要取决于发射区E载流子对基区的发射与注入,几乎与集电极C电位的高低没有什么关系。

5. 三极管Ib与Ic之间的固定比例关系,主要取决于基极B的构造:

1, 在放大状态下,三极管的电流主要由发射极E经基极B再到集电极C的“自由电子”,电流在穿越基极时会被截流,存在截流比( Ib:Ie)问题;

2, 基极B拦截下来的电流是电流Ib,其余的穿过基极B到达集电极C的电流就是Ic;

3, 只要三极管的内部结构确定,电流放大倍数值就确定,是固定不变的(会随IC,温度等变化);因此放大倍数β的值主要与基极B的疏密度(掺杂浓度及厚度)有关:基极B越密(掺杂浓度高)则β值越低(被截留比例越高),基极B越疏(掺杂浓度低)则β值越高(被截留比例越低)。

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我们看到对于三极管来说,电流传输以B区为界分为两部分:

1. B-E处于正偏状态:由于电流调制效应,“空穴”和“自由电子”均参与了电流传输(双极);

2. B-C处于反偏状态:只有“自由电子”参与了电流传输(单极)。

2.2其它状态工作原理

上述为三极管放大状态的分析,但在饱和状态:B-E结正偏, B-C结正偏;截止状态:B-E结反偏,B-C结反偏;放大状态的理论分析是否还适用呢?

三极管基础

1. 当NPN三极管工作在截止区时:少子分布如上左图所示,由于B-E结和B-C结均反偏,于是每个空间电荷区边界少子的浓度为0;所以基区(B区)没有少子——“自由电子”,B-C反偏就不可能有电流产生。

2. 当NPN三极管工作在饱和区时:少子分布如上右图所示,由于B-E结和B-C结均正偏,因此每个空间电荷区边界少子的浓度都不为0;由于基区(B区)的少子-“自由电子”的浓度还是存在浓度梯度,所以有“自由电子”从基区(B区)扩散到集电区(C区);

3. 关于饱和区的工作原理,我们用PN结正、反导通理论来解释:由于B-E结和B-C结均正偏,按道理来说,发射区(E区)和集电区(C区)的“自由电子”都会穿越空间电荷区到达基区(B区),所以电流的流向应该是B->E和B->C,但实际上并不是这样的,电流方向是C->B->E;那为什么会这样呢?

1, 我们知道PN结的载流子运动分为两个:漂移运动和扩散运动;漂移运动取决于电场而扩散运动取决于载流子浓度梯度;

——举个栗子:新家装修后如何最快速度消除甲醛?答案是:开窗通风;因为要制造尽量大的板材与房间空气甲醛浓度差,这样甲醛才能尽快地从板材扩散到空气。

2, 在实际应用中,B-E正偏电压为0.7V,而B-C正偏电压为0.4V左右(Vce = 0.3V);那么B-E正偏电压已足以打通B-E空间电荷区,而B-C正偏电压不足以打通B-C空间电荷区;所以集电区(C区)不会有“自由电子”穿越B-C空间电荷区到达基区(B区);

3, 同时在发射区(E区)不断向基区(B区)注入“自由电子”,其“自由电子”浓度变的非常大,甚至远大于集电区(C区)的“自由电子”浓度,此时平衡被打破:扩散运动大于漂移运动,形成了“自由电子”从基区(B区)到集电区(C区)的电流。

还有一种特殊的情况,即如下图所示NPN三极管工作在反向有源模式,此时B-C结正偏,B-E结反偏。此时可以看成三极管的C极和E极接反了,那在这种情况下的三极管还能正常工作么?

“自由电子”从集电区(C区)注入基区(B区),与正向有源模式相比,基区(B区)中少子的电子浓度梯度方向刚好相反;一般来说B-C结面积比B-E结面积要大的多,因此不是所有“自由电子”都能被发射极收集,而且集电区(C区)和发射区(E区)的掺杂浓度也很不相同,所以在反向有源模式下(E极和C极接反的情况下),虽然也能工作,但三极管的特性会完全不同。

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