被光刻机遮挡光芒的光刻胶，原来这么重要

众所周知，光刻机对芯片制造有着决定性作用，可是大家都忽略了另一个核心材料---光刻胶。

光刻胶又名&34;，它是一种在紫外光等光照或辐射下溶解度会发生变化的薄膜材料。具体来说，在光刻图案化工艺中，首先将光刻胶涂在硅片上，形成一片薄膜，接着在复杂的曝光装置中，光线通过具有一个特定图案的掩膜投射到光刻胶上，曝光区域的光刻胶发生化学反应，在随后的化学显影中被去除，最后掩膜的图案就被转移到光刻胶膜上，而在之后的蚀刻或离子注入工艺中，会对没有光刻机保护的硅片进行刻蚀，最后洗去剩余光刻胶，这时光刻机的图案，就被转移到下层薄膜上，这种薄膜图案化的过程经过多次迭代，连同其它多个物理过程产生集成电路。

那么光刻机和光刻胶有什么关系呢？

简单来说，光刻机是设备，光刻胶是材料。它们都是芯片生产过程中不可或缺的东西。如果说光刻机是推动制程技术的引擎，那么光刻胶就是这部引擎的燃料。

光刻胶是芯片制造过程中涉及到最关键的功能型材料，它的质量决定了光刻精度。哪怕你拥有了最厉害的极紫外光EUV光刻机，但没有好的光刻胶，光刻精度也不会很好。所以光刻胶直接影响了集成电路的性能、成品率、以及可靠性。

关于光刻胶，你了解了吗？