> 知识
可控核聚变和光刻机哪个技术更高
可控核聚变和光刻机技术都高。可控核聚变技术是指控制核聚变反应过程的技术,从而实现安全、可持续的能源供应。通常采用三种方式。一是重力场约束;二是惯性约束;三是磁约束。光刻技术原理是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来,利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。
可控核聚变和光刻机技术都高。可控核聚变技术是指控制核聚变反应过程的技术,从而实现安全、可持续的能源供应。通常采用三种方式。一是重力场约束;二是惯性约束;三是磁约束。光刻技术原理是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来,利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。